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真空納米高分子鍍膜機

2024-08-21
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真空納米高分子鍍膜機

詳細介紹

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納米真空鍍膜采用真空氣相沉積技術(shù),在真空狀態(tài)下,將高分子材料在高溫下升華。繼續(xù)加熱裂解生成單體活性小分子,在常溫條件下沉積在被鍍物品表面上形成防護薄膜。

優(yōu)點是不會出現(xiàn)液態(tài)聚集成橋連狀態(tài),也不需要加熱和固化、流平等輔助工藝過程。膜層厚度在1-100微米之間控制,可穿透狹小縫隙、針孔,與普通的三防相比,具有的表面敷形性能,磨蹭均勻,無針孔,從而阻隔抵制污染物,有機無機溶劑和強酸堿等腐蝕性氣體。

納米高分子鍍膜因其材料優(yōu)異的性能,特別適用于對防潮、防水、防酸、放堿、防鹽、耐高低溫和等級嚴苛的產(chǎn)品及應(yīng)用場所,如航空航天領(lǐng)域、生物醫(yī)療器械、軍工產(chǎn)品、磁性材料、光學(xué)器件、電子工業(yè)等。


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